臺積電兩年前量產(chǎn)了7nm工藝，臺積本年要量產(chǎn)5nm工藝了，電頒度晉已被華為、布收表蘋果搶先預定了大年夜部分產(chǎn)能，工管稀現(xiàn)在3nm工藝也定了，藝年民圓頒布收表2021年風險量產(chǎn)，風險2020年下半年正式量產(chǎn)。量產(chǎn)

別的晶體降，臺積電借流露了3nm工藝的臺積足藝目標，比擬本年的電頒度晉5nm工藝，3nm工藝的布收表晶體管稀度晉降15%，機能晉降10-15%，工管稀能效晉降20-25%。藝年

之前傳講傳聞臺積電正在3nm節(jié)面會放棄FinFET晶體督工藝轉(zhuǎn)背GAA環(huán)抱柵極晶體管，風險沒有過最新動靜稱臺積電研收勝利2nm工藝，量產(chǎn)利用的是GAA晶體管足藝，那意味著臺積電3nm節(jié)面借會采與傳統(tǒng)的FinFET工藝。

據(jù)中媒報導，臺積電將準期推出iPhone戰(zhàn)iPad的蘋果A16芯片，該芯片將采與臺積電的3nm工藝，并于2022年上市。

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